• 真空热处理系列

  • 真空钎焊/扩散焊系列

  • 真空烧结系列

  • 真空高温高压系列

  • HIP热等静压系列

  • 不锈钢管专用热处理系列

  • 钛合金高温合金专用配套热处理系列

  • 真空氢化系列

  • 碳材料特种生产线设备

  • 连续生产线

  • 半导体晶体生长系列

  • VCDF系列真空化学气相沉积炉

    用途:

           在高温并在真空状态下,通入碳源气体,在高温下产生裂解,沉积到工件上,主要用于C/C的化学气相沉积,使复合材料得到致密化处理。   

    可选项:

           1、底装料式  

           2、上装料式


           设备温区大小可根据客户实际需求定制。